超高真空应用
UHV 条件:政府实验室、学术界和私人企业开展复杂研究的先决条件。
国家实验室、大型大学和行业均使用各种真空设备达到所需的真空度。
其中许多组织都依靠我们获得高度专用的真空泵、仪器和系统。
UHV 是一种真空状态,其特点是压力低于 10−9 mbar(或 10-7 Pa)左右。在许多表面分析技术中,为了减少表面污染,需要使用超高真空条件。例如,X 射线光电子能谱分析 (XPS)、俄歇电子能谱分析 (AES)、二次离子质谱分析 (SIMS) 或场致发射显微镜 (FEM)。
对纯度有严格要求的薄膜生长和制备技术,例如分子束外延 (MBE) 和原子层沉积 (ALD),也依赖于 UHV 条件。
在粒子加速器或重力波探测器等研究应用中,超高真空条件将主要帮助减少射束与气体之间的相互作用,并限制来自外部环境的意外扰动。这些真空度要求使用特种材料和抽气原理。
我们提供广泛的高级真空解决方案,可用于艰巨的 UHV 应用。我们的真空组件、系统解决方案和售后服务已在全球主要研究中心表现出了它们的优势。
M-UHV 平台
模块化超高真空实验平台
基于自动化的选件包括
100 | 200 | 300 | 400
极限压力
< 5 x 10-10 mbar
- 基材温度变化范围为 100K - 1000K
- 准确的温度测量
- 模块化概念以及 UHV 转移站设施便于组装集群系统
- 即插即用配置,适用于各种 UHV 实验工具
- 包含旗状样品架
我们的优势
- 多级罗茨泵
- 涡旋泵
- 涡轮分子泵 (TMP)
- 低温泵
- 离子吸气泵和控制器
- 钛升华泵
- NEG 泵
- UHV 硬件、阀门、配件
多级罗茨泵
- 适用于 UHV 的理想前级泵
- 极限压力低
- 非常安静 <52db(A),振动低
- 无油或颗粒污染
- 免维护周期长
涡旋泵
- 无油运行
- 运行安静 55db(A)
- 10 分钟密封件更换
- 很低的极限压力
涡轮分子泵 (TMP)
- 全系列涡轮分子泵和系统
- 产生无烃真空
- 极限压力低
- 对轻质气体抽速大
- 维护需求低
- 即插即用的泵系统
低温泵
- COOLVAC 低温泵具有强劲的蒸汽抽取功能和较低的维护需求
- 产生清洁干燥的真空
- COOLPOWER 冷头可产生低温,无需液氦和液氮
离子吸气泵和控制器
- 在极高真空 (XHV) 范围内实现无烃运行
- 无活动部件,无工作噪音
- 无振动
- 对温度、辐射和磁场的耐受性高
钛升华泵
- 充分清除 UHV 系统中的残余气体
- 对氮气抽速大
- 构造简单,经济实惠
NEG 泵
- H2(UHV/XHV 中的主要残余气体)捕获效率高
- 无振动
- 无油运行
UHV 硬件、阀门、配件
- 多种 UHV 阀门、硬件和配件,带有 CF 法兰
- 采用低释气材料,泄漏率很低
- 烘烤温度高
- 适用于 UHV 的理想前级泵
- 极限压力低
- 非常安静 <52db(A),振动低
- 无油或颗粒污染
- 免维护周期长
- 无油运行
- 运行安静 55db(A)
- 10 分钟密封件更换
- 很低的极限压力
- 全系列涡轮分子泵和系统
- 产生无烃真空
- 极限压力低
- 对轻质气体抽速大
- 维护需求低
- 即插即用的泵系统
- COOLVAC 低温泵具有强劲的蒸汽抽取功能和较低的维护需求
- 产生清洁干燥的真空
- COOLPOWER 冷头可产生低温,无需液氦和液氮
- 在极高真空 (XHV) 范围内实现无烃运行
- 无活动部件,无工作噪音
- 无振动
- 对温度、辐射和磁场的耐受性高
- 充分清除 UHV 系统中的残余气体
- 对氮气抽速大
- 构造简单,经济实惠
- H2(UHV/XHV 中的主要残余气体)捕获效率高
- 无振动
- 无油运行
- 多种 UHV 阀门、硬件和配件,带有 CF 法兰
- 采用低释气材料,泄漏率很低
- 烘烤温度高