UNIVEX G 手套箱
在惰性气体环境下装载对水气和氧气敏感的基材并对其镀膜
我们的标准手套箱系统允许在手套箱的惰性气体环境下装载对水气和氧气敏感的基材并对其镀膜。
UNIVEX G 系统有一个前滑动门，用于连接手套箱。此滑动门允许操作员通过手套箱轻松接触处理室。如果需要直接接触，UNIVEX G 在后部还有一个门。
常见应用
- 触点金属化（金、银、铬、镍、钛等的蒸发）
- 生物传感器/医疗设备
- 有机电子：OLED、有机光伏
- 量子点/显示屏
- 用于形成无机-有机钙钛矿的电子束和有机蒸发器
- UNIVEX G 250
- UNIVEX G 350
- UNIVEX G 450
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 是一种方便且经济高效的解决方案，适用于不需要太多空间的镀膜任务。
可以处理总直径约为 220 mm 的基材、基材座。
G 250 |
|
|---|---|
处理室尺寸 |
宽 270 毫米，深 370 毫米，高 400 毫米 |
热蒸发器 |
多达 4 种材料 |
有机蒸发器 |
多达 4 种材料 |
电子束蒸发 |
多槽或单槽 |
溅射 |
向上或向下，2 x 2" |
共沉积 |
蒸发和/或溅射 |
与真空进样室兼容 |
可选 |
真空度 |
中真空 10-7 mbar |
与洁净室兼容 |
是 |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 将紧凑型设计与充足的处理室空间相结合。
对于许多镀膜任务，UNIVEX G 350 提供了足够的空间条件，并且便于检修工艺组件和进行基材处理。
可以处理总直径约为 300 mm 的基材、基材座。
G 350 |
|
|---|---|
处理室尺寸 |
宽：370 毫米，深：390 毫米，高：500 毫米 |
热蒸发器 |
多达 8 种材料 |
有机蒸发器 |
多达 4 种材料 |
电子束蒸发 |
多槽和/或单槽 |
溅射 |
向上或向下：3 支 2 英寸口径的喷枪，或 2 支 3 英寸口径的喷枪 |
共沉积 |
蒸发和/或溅射 |
与真空进样室兼容 |
可选 |
离子辅助沉积 |
可选 |
真空度 |
中真空 10-7 mbar |
与洁净室兼容 |
是 |
UNIVEX G 450
UNIVEX G 450
由于其处理室尺寸，UNIVEX G 450 适用于需要大量空间的镀膜任务。可以处理总直径超过 400 mm 的基材。真空室的高度为 650 mm，也适用于剥离应用。
G 450 |
|
|---|---|
处理室尺寸 |
宽：500 毫米，深：500 毫米，高：650 毫米 |
热蒸发器 |
多达 8 种材料 |
有机蒸发器 |
多达 8 种材料 |
电子束蒸发 |
多槽和/或单槽 |
溅射 |
向上或向下：3 支 3 英寸、2 支 4 英寸、4 支 2 英寸或其他尺寸 |
共沉积 |
蒸发和/或溅射 |
与真空进样室兼容 |
可选 |
离子辅助沉积 |
可选 |
真空度 |
中真空 10-7 mbar |
与洁净室兼容 |
是 |
UNIVEX G 250
UNIVEX G 250 是一种方便且经济高效的解决方案，适用于不需要太多空间的镀膜任务。
可以处理总直径约为 220 mm 的基材、基材座。
G 250 |
|
|---|---|
处理室尺寸 |
宽 270 毫米，深 370 毫米，高 400 毫米 |
热蒸发器 |
多达 4 种材料 |
有机蒸发器 |
多达 4 种材料 |
电子束蒸发 |
多槽或单槽 |
溅射 |
向上或向下，2 x 2" |
共沉积 |
蒸发和/或溅射 |
与真空进样室兼容 |
可选 |
真空度 |
中真空 10-7 mbar |
与洁净室兼容 |
是 |
UNIVEX G 350
UNIVEX G 350 将紧凑型设计与充足的处理室空间相结合。
对于许多镀膜任务，UNIVEX G 350 提供了足够的空间条件，并且便于检修工艺组件和进行基材处理。
可以处理总直径约为 300 mm 的基材、基材座。
G 350 |
|
|---|---|
处理室尺寸 |
宽：370 毫米，深：390 毫米，高：500 毫米 |
热蒸发器 |
多达 8 种材料 |
有机蒸发器 |
多达 4 种材料 |
电子束蒸发 |
多槽和/或单槽 |
溅射 |
向上或向下：3 支 2 英寸口径的喷枪，或 2 支 3 英寸口径的喷枪 |
共沉积 |
蒸发和/或溅射 |
与真空进样室兼容 |
可选 |
离子辅助沉积 |
可选 |
真空度 |
中真空 10-7 mbar |
与洁净室兼容 |
是 |
UNIVEX G 450
由于其处理室尺寸，UNIVEX G 450 适用于需要大量空间的镀膜任务。可以处理总直径超过 400 mm 的基材。真空室的高度为 650 mm，也适用于剥离应用。
G 450 |
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|---|---|
处理室尺寸 |
宽：500 毫米，深：500 毫米，高：650 毫米 |
热蒸发器 |
多达 8 种材料 |
有机蒸发器 |
多达 8 种材料 |
电子束蒸发 |
多槽和/或单槽 |
溅射 |
向上或向下：3 支 3 英寸、2 支 4 英寸、4 支 2 英寸或其他尺寸 |
共沉积 |
蒸发和/或溅射 |
与真空进样室兼容 |
可选 |
离子辅助沉积 |
可选 |
真空度 |
中真空 10-7 mbar |
与洁净室兼容 |
是 |
