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UNIVEX Box Coater family

UNIVEX 箱式镀膜系统

Leybold 紧凑型 UNIVEX 箱式镀膜机依据工艺室的大小命名。

模块化系统设计

多用途真空室

方便检修所有已安装的设备

在同一工艺室中采用多种沉积技术

与洁净室兼容

UNIVEX 250

UNIVEX 250

Leybold 紧凑型 UNIVEX 箱式镀膜机依据工艺室的大小命名。 

由于其高度较低(约 1.2 米)可以放置在台面上使用,可以对总直径不超过 220 mm 的基材镀膜。 

系统控制器允许您分别运行手动、半自动镀膜工艺。 

常见应用:

  • 触点金属化(金、银、铬、镍、钛等的蒸发)
  • 显微镜造影成像(铟、碳等)
  • 薄膜太阳能

典型配置

  • 带热蒸发器的多槽电子束 
  • 多达两支 2" 的溅射枪,采用共焦配置,用于溅射 
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 250

处理室尺寸

宽:270 毫米,深:370 毫米,高:400 毫米

热蒸发器

多达 4 种材料

有机蒸发器

多达 4 种材料

电子束蒸发

多槽或单槽

溅射

向上或向下,2 x 2"

共沉积

蒸发和/或溅射

与真空进样室兼容

可选

水调温室

可选

真空度

中真空 10-7 mbar

与洁净室兼容

UNIVEX 400

UNIVEX 400

UNIVEX 400 是用于实验室任务、试生产运行的紧凑型镀膜系统。其工艺室的尺寸非常适合对中小型基材镀膜。 

可对总直径不超过 350 mm 的基材镀膜。 

系统控制器允许您运行手动、半自动和全自动镀膜工艺。 

 常见应用

  • 薄膜太阳能:CdTe、CIGS、CZTS 溅射工艺
  • 有机电子(PV、OLEDS)
  • 光学镀膜
  • 微电子

典型配置

  • 带热蒸发器和离子源的多槽电子束。
  • 多达四支 2" 的溅射枪,采用共焦配置,用于向上或向下溅射
  • 用于形成无机-有机钙钛矿的电子束和有机蒸发器
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 400

处理室尺寸

宽:420 毫米,深:480 毫米,高:550 毫米

热蒸发器

多达 8 种材料

有机蒸发器

多达 8 种材料

电子束蒸发

多槽或单槽

溅射

向上或向下,4 支 2 英寸、3 支 3 英寸、2 支 4 英寸或其他尺寸

共沉积

蒸发和/或溅射

与真空进样室兼容

可选

离子辅助沉积

可选

水调温室

真空度

中真空 10-7 mbar

UHV 版本

可选

与洁净室兼容

UNIVEX 600

UNIVEX 600

UNIVEX 600 是用于实验室、试生产运行的紧凑型镀膜系统。其工艺室尺寸,非常适合对中大型基材镀膜。 

可实现的基材处理能力符合小型批量生产运行的一般要求。可对总直径不超过 550 mm 的基材镀膜。 

系统控制器允许您运行手动、半自动和全自动镀膜工艺。 

常见应用

  • 光学镀膜
  • 光电设备
  • 电阻式 RAM
  • 高温超导体

典型配置

  • 基材加热器和/或冷却器 
  • 带热蒸发器和离子源的多槽电子束。
  • 用于单个或多个样品的调色板、圆顶或行星基材配置
  • 共焦或面对面配置的多溅射枪
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 600

处理室尺寸

宽:600 毫米,深:600 毫米,高:800 毫米或 550 毫米(溅射)

热蒸发器

多达 8 种材料

有机蒸发器

多达 8 种材料

电子束蒸发

多槽和/或单槽,多枪操作

溅射

向上或向下:4 支 3 英寸、3 支 4 英寸、6 支 2 英寸或其他尺寸

共沉积

蒸发和/或溅射

与真空进样室兼容

可选

离子辅助沉积

可选

水调温室

真空度

中真空 10-7 mbar

UHV 版本

可选

与洁净室兼容

UNIVEX 900

UNIVEX 900

UNIVEX 900 是针对中到大型基材尺寸的复杂解决方案,可实现较高的基材处理能力。可对总直径不超过 800 mm 的基材镀膜。系统控制器允许您运行手动、半自动和全自动镀膜工艺。

常见应用

  • 光学镀膜
  • 光电设备
  • 电阻式 RAM
  • 高温超导体

典型配置

  • 基材加热器和/或冷却器 
  • 带离子源的多槽电子束,用于基材预清洁和离子辅助沉积
  • 用于单个或多个样品的调色板、圆顶或行星基材配置
  • 共焦或面对面配置的多溅射枪
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 900

处理室尺寸

宽:900 毫米,深:900 毫米,高:1100 毫米

热蒸发器

多达 8 种材料

有机蒸发器

多达 8 种材料

电子束蒸发

多槽和/或单槽,多枪操作

溅射

可选

共沉积

与真空进样室兼容

可选

离子辅助沉积

可选

水调温室

真空度

中真空 10-7 mbar

UHV 版本

可选

与洁净室兼容

UNIVEX 250

Leybold 紧凑型 UNIVEX 箱式镀膜机依据工艺室的大小命名。 

由于其高度较低(约 1.2 米)可以放置在台面上使用,可以对总直径不超过 220 mm 的基材镀膜。 

系统控制器允许您分别运行手动、半自动镀膜工艺。 

常见应用:

  • 触点金属化(金、银、铬、镍、钛等的蒸发)
  • 显微镜造影成像(铟、碳等)
  • 薄膜太阳能

典型配置

  • 带热蒸发器的多槽电子束 
  • 多达两支 2" 的溅射枪,采用共焦配置,用于溅射 
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 250

处理室尺寸

宽:270 毫米,深:370 毫米,高:400 毫米

热蒸发器

多达 4 种材料

有机蒸发器

多达 4 种材料

电子束蒸发

多槽或单槽

溅射

向上或向下,2 x 2"

共沉积

蒸发和/或溅射

与真空进样室兼容

可选

水调温室

可选

真空度

中真空 10-7 mbar

与洁净室兼容

UNIVEX 400

UNIVEX 400 是用于实验室任务、试生产运行的紧凑型镀膜系统。其工艺室的尺寸非常适合对中小型基材镀膜。 

可对总直径不超过 350 mm 的基材镀膜。 

系统控制器允许您运行手动、半自动和全自动镀膜工艺。 

 常见应用

  • 薄膜太阳能:CdTe、CIGS、CZTS 溅射工艺
  • 有机电子(PV、OLEDS)
  • 光学镀膜
  • 微电子

典型配置

  • 带热蒸发器和离子源的多槽电子束。
  • 多达四支 2" 的溅射枪,采用共焦配置,用于向上或向下溅射
  • 用于形成无机-有机钙钛矿的电子束和有机蒸发器
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 400

处理室尺寸

宽:420 毫米,深:480 毫米,高:550 毫米

热蒸发器

多达 8 种材料

有机蒸发器

多达 8 种材料

电子束蒸发

多槽或单槽

溅射

向上或向下,4 支 2 英寸、3 支 3 英寸、2 支 4 英寸或其他尺寸

共沉积

蒸发和/或溅射

与真空进样室兼容

可选

离子辅助沉积

可选

水调温室

真空度

中真空 10-7 mbar

UHV 版本

可选

与洁净室兼容

UNIVEX 600

UNIVEX 600 是用于实验室、试生产运行的紧凑型镀膜系统。其工艺室尺寸,非常适合对中大型基材镀膜。 

可实现的基材处理能力符合小型批量生产运行的一般要求。可对总直径不超过 550 mm 的基材镀膜。 

系统控制器允许您运行手动、半自动和全自动镀膜工艺。 

常见应用

  • 光学镀膜
  • 光电设备
  • 电阻式 RAM
  • 高温超导体

典型配置

  • 基材加热器和/或冷却器 
  • 带热蒸发器和离子源的多槽电子束。
  • 用于单个或多个样品的调色板、圆顶或行星基材配置
  • 共焦或面对面配置的多溅射枪
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 600

处理室尺寸

宽:600 毫米,深:600 毫米,高:800 毫米或 550 毫米(溅射)

热蒸发器

多达 8 种材料

有机蒸发器

多达 8 种材料

电子束蒸发

多槽和/或单槽,多枪操作

溅射

向上或向下:4 支 3 英寸、3 支 4 英寸、6 支 2 英寸或其他尺寸

共沉积

蒸发和/或溅射

与真空进样室兼容

可选

离子辅助沉积

可选

水调温室

真空度

中真空 10-7 mbar

UHV 版本

可选

与洁净室兼容

UNIVEX 900

UNIVEX 900 是针对中到大型基材尺寸的复杂解决方案,可实现较高的基材处理能力。可对总直径不超过 800 mm 的基材镀膜。系统控制器允许您运行手动、半自动和全自动镀膜工艺。

常见应用

  • 光学镀膜
  • 光电设备
  • 电阻式 RAM
  • 高温超导体

典型配置

  • 基材加热器和/或冷却器 
  • 带离子源的多槽电子束,用于基材预清洁和离子辅助沉积
  • 用于单个或多个样品的调色板、圆顶或行星基材配置
  • 共焦或面对面配置的多溅射枪
UNIVEX Coating Systems
 

UNIVEX 900

处理室尺寸

宽:900 毫米,深:900 毫米,高:1100 毫米

热蒸发器

多达 8 种材料

有机蒸发器

多达 8 种材料

电子束蒸发

多槽和/或单槽,多枪操作

溅射

可选

共沉积

与真空进样室兼容

可选

离子辅助沉积

可选

水调温室

真空度

中真空 10-7 mbar

UHV 版本

可选

与洁净室兼容

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