TWISTER 基材台
研发变得简单
完全自主制造的 TWISTER™ 基材台是将创新、稳健和可靠的技术集成到 UNIVEX 系统或可能已在运行的任何其他镀膜室中的下一个步骤。
针对特定应用的定制解决方案
为了确保镀膜工艺的成功和可重复性，我们开发了一个可旋转、可加热的基材台，从而可实现良好的均匀性和镀膜质量。
为了满足您的不同需求，我们提供了由三个主要版本组成的模块化系统：
- 基本型
- 高级型
- 全功能型
我们可以从中推导出 576 种可能的版本！
模块化系统
基于其模块化原理，TWISTER™ 基材台是一种典型的可升级设备，仅在添加真空进样室时需要额外的气动夹具。如果需要冷却，只需将加热板更换为加热和冷却组合板即可。
精准操控，获得精确结果
- 通过精确旋转基材，获得均匀一致的薄膜
- 可选的 Z-shift，用于调整基材与镀膜源的距离，并用于真空进样室转移
- 基材板灵活可调，直径可达 6 英寸
- 通过加热至 400 °C 改善镀层质量
- 可选水冷却：
- 保护箔和 OLED 材料等敏感基材
- 更快的冷却和后续处理
- 易于更换的镀膜护罩，便于清洁
- 包含位置控制
- 可对大多数现有实验室镀膜设备进行升级
